Principali caratteristiche prestazionali e strutturali:
1. Il densimetro e lo stampo possono formare un sistema di controllo a circuito chiuso.
2. Sistema CCD con controllo a circuito chiuso per il rilevamento delle dimensioni.
3. Applicare il nastro di terminazione sui residui di lavorazione.
4. È possibile applicare un doppio strato di impasto sullo stesso lato del substrato.
5. Collaborare con il sistema MES e gestire il controllo remoto delle apparecchiature tramite cloud.
Monitoraggio della qualità e feedback:
1. Densimetro di area a raggi X/B per rilevamento in linea.
2. Sistema CCD per il rilevamento di dimensioni e difetti.
Stampa a getto d'inchiostro con marchio 3.NG.
4. Misurazione della temperatura tramite infrarossi sulla superficie dell'elettrodo all'interno del forno.
5. Il misuratore di portata massica monitora in tempo reale la portata, la viscosità e la temperatura.
6. Monitoraggio della concentrazione di NMP per il forno catodico e rilevamento dell'umidità per il forno anodico.
Principali parametri tecnici:
| Fango adatto | LFPLCO, LMO, ternario, grafite, silicio-carbonio, ecc. |
| Modalità di rivestimento | Rivestimento per estrusione |
| Larghezza del substrato/Spessore del substrato | Max:1400mm/Cu:min4.5um;/AL:Min9um |
| Larghezza della superficie del rullo | Massimo: 1600 mm |
| Larghezza del rivestimento | Massimo: 1400 mm |
| Velocità di rivestimento | ≤90 m/min |
| Precisione del peso del rivestimento | ±1% |
| Metodo di riscaldamento | Riscaldamento elettrico/riscaldamento a vapore/riscaldamento a gasolio |
Nota: i parametri specifici sono soggetti ad accordo contrattuale.